- 据日媒报道，日本芯片公司Rapidus表示，正在北海道建设芯片工厂，目标是2027年量产2nm制程芯片。该公司宣布，决定在2024年年底引入EUV光刻机，并将派遣员工赴荷兰阿斯麦学习EUV极紫外光刻技术。目标是今年派遣100名员工至IBM、阿斯麦学习先进芯片技术。
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日本 Rapidus 2nm 芯片制程 EUV光刻机
- 最近的数码圈非常热闹，华为突破工艺封锁，带来新的麒麟 9000S 芯片，苹果也首发 3 纳米制程的芯片 A17，即将上线的还有高通的年度旗舰芯片 8Gen3 等等。手机性能愈发强大，很多人会问：我平时就是刷视频、聊天、看新闻，需要这么好的芯片吗？为什么我们需要越来越先进的的芯片制程？我真的需要为这么贵的技术买单吗？今天，咱们就来聊聊你关心的这些问题。什么是芯片制程说起芯片制程，就不得不提到一个大名鼎鼎的定律：摩尔定律。如果你对电子产品有一些了解，那么相信你一定听过这个定律。这个定律的具体内容是：集成电路上
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- 知情人士称，美国美光科技公司准备在日本广岛的工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV（极紫外光刻机），以制造下一代存储芯片（DRAM）。而其也将获得日本政府提供的约2000亿日元（15亿美元）的补贴。日本经济产业大臣西村康稔之后证实了美光在日的进一步投资。他指出，日本政府正与台积电讨论扩大在日投资的可能性，美光也有意在广岛开始大规模生产先进存储芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄会见了美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团，而有关芯片的详细计划可能在之后陆续宣布。自201
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- 10nm都还没用上，这3nm就要来了，芯片制程工艺是否更新有点快？台积电3nm工艺或于2年内准备就绪 台积电董事长刘德音（Dr.Mark Liu）证实，该公司的下一代3nm芯片制造节点，正在按计划推进之中。作为全球知名的芯片代工制造商，台积电当前正在建设3nm生产线，且有望明年转入试生产。与5nm制程节点相比，3nm可提供几乎翻番的逻辑密度，辅以11%的性能提升、或27%的能效改进。 3nm较5nm制程的增益示例（图via WCCFTech） 积电高管在早前的国际固态电路会议（ISSCC）演讲期
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台积电 芯片制程
- 现在的集成电路制造技术其核心就是光刻技术，这种方法与照相类似，就是将掩模版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂（或称光刻胶）的硅片上。
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- 伟创力是电子产品制造服务领域的著名厂商，发展至今拥有四个主要的业务部门，主要面向:高可靠性解决方案;高速解决方案;集成网络解决方案;工业与新兴行业等，其中高可靠性解决方案主要包括航空与国防、医疗、汽车等几个重要行业。电子行业发展至今，消费类电子的利润率在不断降低，而另一方面，汽车的智能化，远程医疗和便携式医疗技术不断发展，使得业界厂商纷纷投入。欲占得市场先机，必须要有优质的产品，而优质产品的基础就是必须有高可靠性的设计方案。
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