- 5 月 29 日消息，半导体行业花了十多年的时间来准备极紫外线 (EUV) 光刻技术，而新的高数值孔径 EUV 光刻（High-NA EUV）技术将会比这更快。目前，最先进的芯片是 4/5 纳米级工艺，下半年三星和台积电还能量产 3nm 技术，而对于使用 ASML EUV 光刻技术的 Twinscan NXE:3400C 及类似系统来说，它们大都具有 0.33 NA（数值孔径）的光学器件，可提供 13 nm 分辨率。目前来看，这种分辨率尺寸对于 7 nm / 6 nm 节点 (36 nm ~ 38 nm)
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EUV 光刻机 ASML
- 5月17日消息，为了强调光在推进科学进步过程中的重要作用，联合国教科文组织将每年的5月16日定为“国际光日”。5月13日，ASML在一篇公众号文章中称，现有技术能实现1nm工艺，摩尔定律可继续生效十年甚至更长时间。 ASML称，在半导体领域，摩尔定律——这一诞生于1965年的前瞻推断，就扮演着如同光一样的角色，指引芯片制造的每一次创新与突破。在过去的50多年里，摩尔定律不断演进。摩尔关于以最小成本制造复杂芯片的最初预测，也在演进过程中被转述成各种各样的表述，现在这个定律最常被表述为半导体芯片可容纳的
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ASML 芯片工艺
- 日前，ASML对目前的芯片产能做出了推测，目前没有任何迹象表明相关需求放缓。根据ASML首席执行官Peter Wennink在财报会议上的说法，目前，在各大细分市场的客户对于先进和成熟芯片制造技术需求已经到了一种“前所未有”的地步，且没有任何减弱的迹象。用户旺盛的需求导致Wennink不得不承认，由于产能限制，ASML目前做多只能满足其深紫外光刻机需求的60%左右。Wennink表示，这意味着，直到2023年，芯片产能都将处在严重短缺的状态，并且没有看到任何能够表明需求放缓的迹象。在此次电话会议上，Pet
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ASML 芯片产能
- ASML公司虽然是荷兰企业，但不少网友都把ASML公司“美”化了，这里的“美”指的是美国。在华为遭遇到芯片封锁之前，中国半导体企业就曾向ASML公司支付了定金，采购了一台EUV光刻机。然而，ASML公司却迟迟没有发货，这也引起了网友的各种猜疑。众所周知，全世界只有ASML公司能够生产EUV光刻机，而一部EUV光刻机上就有超过10w的精密零件，各方面的技术也是来自全世界各国的顶尖技术。所以ASML公司的光刻机一直是供不应求。但明明已经收了定金，10亿一部的EUV光刻机，ASML公司为何有生意不做呢？大部分的
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EUV ASML 光刻机
- 光刻机是半导体制造中的核心设备之一，EUV光刻机全球也只有ASML公司能够研发、生产，但它的技术限制也很多，俄罗斯计划开发全新的EUV光刻机，使用的是X射线技术，不需要光掩模就能生产芯片。 光刻机的架构及技术很复杂，不过决定光刻机分辨率的主要因素就是三点，分别是常数K、光源波长及物镜的数值孔径，波长越短，分辨率就越高，现在的EUV光刻机使用的是极紫外光EUV，波长13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先进工艺工艺。 俄罗斯莫斯科电子技术学院 (MIET)现在就接下了贸工部的6.7亿卢布资金(约合51
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光刻机 ASML
- 当前，芯片问题广受关注，而半导体工业皇冠上的明珠——以极紫外（EUV）光刻机为代表的高端光刻机，则是我国集成电路（IC）产业高质量发展必须迈过的“如铁雄关”。如何在短期内加快自主生产高端光刻机的步伐，打破国外的技术封锁和市场垄断？笔者认为，应找准关键技术，攻克核心设备，跻身上游产业。认清光刻关键技术对于光刻机，凭什么美国可以左右荷兰阿斯麦公司（ASML）EUV光刻机的出海国家？ASML又为什么“愿意”听从美国的“摆布”？一方面，美国在ASML早期研发阶段给予大力扶持，帮助其获取最新的研究成果；作为继续扶持
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光刻机 ASML
- 日前国产芯片厂商格科微宣布成功实现整套ASML光刻机中的关键设备——先进ArF光刻机的搬入。据格科微表示，目前，格科微洁净室已按计划分阶段顺利验收，相关厂务系统配备进展顺利，共有六十一台设备已经搬入。未来，外延、蚀刻、薄膜、清洗等相关设备仍会陆续搬入。格科微表示，ArF光刻机的成功引入，是格科微“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”建设的关键节点。依托自有工厂即格科半导体的先进制程，格科微将进一步加快先进CIS工艺和高阶专利像素的研发速度，并在自有工厂实现批量生产验证，从而极大缩短高端产品从研
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CMOS传感器 ASML 光刻机
- 3 月 29 日消息，光刻机巨头阿斯麦 ASML 在新加坡一间工厂的开幕式上宣布，将在该工厂兴建第二座制造车间，预计将于 2023 年初投产。扩建后的工厂将让该公司在新加坡的产能增加 3 倍，全球产能倍增。ASML 是世界领先的科技公司之一，全球半导体价值链的主要参与者。这里设计的技术和机器有助于在新加坡、韩国或美国生产芯片。世界上最大的芯片制造商们都需要这种设备。在生产处理器芯片的过程中，EUV 光刻机最昂贵。目前全世界只有阿斯麦（ASML）能制造出 EUV 光刻机。在过去的十年时间里，阿斯麦总共售出大
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- 受近年芯片供应持续短缺的影响，我们已经看到了位于世界各地的多个晶圆厂的建设公告。但是在投入实际生产之前，这一切都受到荷兰阿斯麦（ASML）的光刻机供应的限制。ASML 首席执行官 Peter Wennink 刚刚发出警告，称该公司难以满足客户的产品需求。据悉，ASML 专注于生产适用于半导体行业的各种类型的光刻机，且在该领域处于世界领先地位，客户中包括了英特尔、台积电、三星等芯片巨头。然而最新消息是，至少在未来几年内，ASML 都无法顺利交付所有订单。即使今年预期的光刻机出货量高于去年，但明年的增势并未放
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- 众所周知，ASML是全球最牛的光刻机厂商，能够用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产。而ASML生产的EUV光刻机，一般也是优先供应给intel、台积电、三星这三家厂商，其它的厂商要等这三家厂商买剩了后，才可能会轮到。为什么ASML会优先卖给这三家厂商呢？第一是这三家厂商是大客户，必须要优特，第二则是很多人说，这三家厂商是ASML的股东，所以当然要先照顾股东。那么问题就来了，ASML的股东究竟是谁，英特尔、三星、台积电真的是ASML的股东么？关于ASML的由来，可以追溯到1984年，
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- 3月24日上午10:18，在严格遵守防疫政策并做好疫情防控措施的情况下，格科微顺利举办ASML先进ArF光刻机搬入仪式。格科半导体SVP李朝勇、各部门总监、光刻团队及厂务团队出席仪式，共同见证了公司这一里程碑式的重要时刻。目前，格科微有限公司“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”推进迅速。厂房和洁净车间建设已经基本完成，并于2022年2月16日开始主设备的搬入安装。在3月24日，格科半导体再次迎来了建厂重要标志性时刻，整套生产线中的最关键设备——ASML先进ArF光刻机成功搬入。ArF光刻机的
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- 俄乌军事冲突愈演愈烈，加上中国境内多座城市新冠疫情反扑，全球半导体供应链再次亮起红灯。综合外媒报道，由于俄乌局势持续紧张，乌克兰两家主要氖气供应商Ingas和Cryoin公司工厂暂停生产。氖气广泛应用于镭射激光等半导体制程中，这两家公司每月为中国大陆及台湾地区、韩国、美国、德国客户提供氖气，其中约75%用于芯片行业。两家公司所在地马里乌波尔和敖德萨目前被俄罗斯控制，为保护员工安全停止运营。俄罗斯和乌克兰的氖气产量占全球的四分之一，半导体制造另一重要原材料稀土金属钯40%来自俄罗斯。俄乌事态持续激化将令本就
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俄乌冲突 ASML 上游材料
- ASML位于德国柏林工厂一处，于1月3日发生火警，该企业主要为晶圆代工及内存生产，所需的关键设备机台，包含EUV与DUV之最大供货商。根据TrendForce的消息，占地32,000平方米的柏林厂区中，约200平方米厂区受火灾影响。该厂区主要制造光刻机中，所需的光学相关零组件，例如：晶圆台、光罩吸盘和反射镜，其中用以固定光罩的光罩吸盘，处于紧缺状态。目前该厂零组件以供应EUV机台较多，且以晶圆代工的需求占多数。若届时因火灾而造成零组件交期有所延后，不排除ASML将优先分配主要的产出支持晶圆代工订单的可能性
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TrendForce ASML EUV光刻机
- 芯片行业一直是困扰全球的“卡脖子”领域，而其中核心的光刻机技术被几家公司牢牢的攥在手里。想要在芯片领域有长足的进步，光刻机这种核心设备就要有所突破。而之前美国通过自身在全球市场的控制能力，通过修改法案等手段一直将光刻机设备和技术限制对中国进行输出。但近期光刻机头部企业ASML则明确表态将会尽其所能向中国市场提供一切他们能够提供的技术，其中DUV光刻机将会不需要认可许可即可向中方企业提供。ASML光刻机除此之外，ASML表示在当前法律框架之下，他们除了EUV光刻机无法向中方企业提供，其他产品都可以正常发售。
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ASML EUV 光刻机
- 芯研所消息，全球半导体的缺货，进一步激发了上游半导体设备厂商的产能，据外媒报道截至第二季度，ASML EUV设备出货总量达到102台，随着需求量的提高和客户群的扩大，预计2年内累计供应量将增加2倍以上，标志着EUV时代正式拉开帷幕。据统计，过去四个季度（2020年第三季度-2021年第二季度），ASML EUV设备出货总计40台，较之前四个季度（2019年第三季度-2020年第二季度）增长了66%。ASML今年的出货目标是40台左右，下半年将供应25台左右。ASML扩大EUV设备供应响应了半导体制造业实现
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