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IBM制成32nm SOI嵌入式DRAM

—— 成为业界性能最佳的片上存储方案
作者:时间:2009-09-22来源:semi收藏

  宣布已制成 SOI嵌入式测试芯片,并称该芯片是半导体业界面积最小、密度最高、速度最快的片上

本文引用地址:http://www.amcfsurvey.com/article/98335.htm

  表示,使用SOI技术可使芯片性能提高30%,功耗降低40%。还表示,基于SOI技术的嵌入式每个存储单元只有一个单管,和、22nm的片上SRAM相比,具有更理想的密度和速度。

  IBM的这款 SOI嵌入式周期时间可以小于2纳秒,与同类SRAM相比待机功耗降低4倍,软错误率降低1000多倍,功耗也大大减少。

  IBM希望将32nm SOI技术推向更广阔的领域。IBM已经向其代工客户提供32nm SOI技术,ARM正在为该技术开发库,双方的合作将持续到22nm SOI技术。

  IBM的工程师将于12月的IEDM上详细描述32nm和22nm嵌入式DRAM技术。



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