全球第二!SK海力士追上三星、量产20纳米DRAM
SK海力士终于赶上三星电子,成为全球第二家成功量产20奈米DRAM的厂商。该公司也力拼3D NAND Flash研发,期盼能在明年量产48层3D NAND。
本文引用地址:http://www.amcfsurvey.com/article/281369.htmBusinessKorea 15日报导,SK海力士人员受访表示,该公司引入20奈米DRAM制程,过程虽有困难,但已经稳定,开始寄送样品给客户、进入量产。据此而言,SK海力士是世界第二家量产20奈米DRAM的业者。三星首开先例,去年3月就量产20奈米DRAM。
SK海力士也宣布3D NAND研发计画,社长朴星昱(Park Sung-wook)表示,计画今年逐步发展36层3D NAND,明年全面量产48层3D NAND,和三星较劲的意味浓厚。三星电子8月10日宣布,第三代V-NAND已正式量产,以48层3-bit MLC堆叠。
据传该公司有意拓展系统半导体业务,Park说,这无法短时间内能办到,需要进一步提升能力,若不如此连并购都难以进行,将先发展内部实力,包括晶圆代工等,再来考虑下一步。
韩媒etnews 4月7日报导,据了解SK海力士的清州(Cheongju)M8厂提供系统半导体的晶圆代工服务,SK海力士正在调整该厂产线,增加晶圆生产种类。M8厂专门生产非记忆体晶片,目前主要制造CMOS238影像感测器(CIS)、电源管理IC、显示器驱动IC等。报导称,SK海力士招聘了大量非记忆体晶片人士,包括业界制程专家和晶圆代工研究者等,协助扩充相关的晶圆代工业务。
美光也力拼DRAM微缩制程,日经新闻10月12日报导,美光计划于今后1年内对日本广岛工厂豪砸1,000亿日圆资金,导入最新生产设备,量产全球最先端、采用16nm制程技术的DRAM产品,且目标为在2016年上半年确立16nm DRAM的量产技术。
韩媒BusinessKorea 4月13日报导,2014年第四季,SK海力士的38奈米制程约占该公司DRAM生产的8%,预计今年下半改为2z DRAM(20奈米级)制程。业界消息称,今年Q1,25奈米制程已占SK海力士总生产的82%。DRAMeXchange预估,SK海力士将在今年Q3进入2z制程,明年迈上轨道。
相较之下,30奈米制程仍占美光(Micron)产能的40%、南亚科(2408)的90%。目前2z奈米DRAM制程以三星电子领先,目前约占产出20%,预估今年内将拉升至50%。DRAMeXchange估计,三星DRAM生产中,25奈米生产占57%、20奈米占23%、35奈米占20%。
评论