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NAND闪存走向发展死胡同?

作者:时间:2015-08-12来源:Doit 收藏
编者按:NAND闪存技术进入发展的死胡同,工程师开始集中开发3D NAND

  尽管平面浮栅技术还能够进一步收缩,但工程师们并没有过多关注,现在只专注于3D

本文引用地址:http://www.amcfsurvey.com/article/278598.htm

  闪存技术是在1989年推出的,使得拇指驱动器,SSD和你的智能机内存成为可能,并最终达到了一个发展的死胡同。

  和其他平面浮栅闪存的主流厂商正在搁置这些工程计划转而集中开发3D NAND,又称垂直电荷捕获或浮栅闪存以及其他3D存储器。

  负责的存储器业务副总裁,Scott Nelson称平面或2D NAND闪存将持续售卖,因为现在仍有许多“较低密度”的应用程序在用它。但是将它收缩到15nm以下的经济性可以说是毫无意义可言。

  “任何的进一步收缩尺寸都太有挑战性,” Nelson表示,“截至目前,依然没有路线图指明会出现另一代浮栅。”

  令人意外的是,2D NAND的发展困境是较为近期的。大约一年前半导体研究公司Objective Analysis首席分析师 Jim Handy在和at Imec半导体研究与开发副总裁的谈话中曾表示“实现13nm平面NAND一路都会畅行无阻。”(Imec是半导体企业研究联盟)

  就在上个月,Steegen改变了她的看法。

  “她说NAND制造商放弃了这个计划,而且把他们所有的资源都放在了3D上,” Handy称,“所以,是的,平面闪存终结在15nm上。”

  东芝发展伙伴闪迪也曾在访谈中有相同表示。

  2013年,三星第一个推出了垂直TLC "V-NAND"——一个基于电荷捕获闪存(CTF)技术并且垂直互联处理技术链接到单元阵列的32层单元架构。通过使用后者的技术,三星的3D V-NAND能提供相对其20nm平面NAND闪存两倍以上的缩放。

  东芝今年早期推出了15nm NAND闪存用于嵌入式多媒体卡(eMMC)。东芝和闪迪在其开发更大密度和容量3D技术的同时仍将售卖其15nm平面NAND用于较低容量应用程序。

  三星的3D V-NAND芯片性比以前的平面NAND闪存提供2到10倍更高可靠性和2倍写入性能。

  美光在NAND闪存开发方面与英特尔有合作关系,它的研究与开发副总裁,Scott DeBoer称它们的公司计划下一步也将集中在2个新的3D存储器技术上。

  英特尔和美光正在开发基于一个浮栅存储器单元的32层3D NAND闪存;它们近期也推出了一个电阻式RAM(ReRAM)存储器也就是最近很热的3D Xpoint。128Gbit芯片,基于新的3D Xpoint技术,提供比平面NAND高达1000倍的性能和恢复力。英特尔和美光称其3D NAND将控制在256Gbits (32GB)或384Gbits (48GB)每芯片。

  3D Xpoint技术是英特尔和美光创造的一个新型非易失性存储器的,依靠材料的电阻变化来实现非易失性。在存储单元和选择器里结合架构和独一无二的材料使得3D Xpoint实现更高密度,性能以及耐久性。

  美光和英特尔的32层3D NAND旨在降低成本增大容量,而他们的新3D XPoint RAM将取代一些用于高性能应用程序的DRAM和NAND闪存,如大数据分析。

  英特尔和美光称3D XPoint RAM为“1989年以来首个新型存储器”,提及了浮栅NAND。

  那么为什么不用3D XPoint取代3D NAND?生产起来太贵了,英特尔方面称。因为它的价格点,3D XPoint存储器将居于DRAM(更快更贵的存在)和3D NAND(更慢更便宜的存在)之间。

  再加上近期闪迪进入实验性生产的48层3D NAND芯片。随着这些非易失性存储器的涌现,平面NAND无法在规模上竞争,但是从130nm的尺寸(1989年),甚至是40nm(2006年)也隔了相当长一段时间。

  考虑到这一点,人类的一条DNA链直径是2.5纳米,一英寸是25,400,000纳米。现在想一下主要的NAND闪存存储器制造商都在大肆生产15nm和16nm大小的NAND。没有多少空间来进一步收缩了。

  而与此同时厂商正在收缩平面NAND制程技术,他们正在逐渐增加存储器单个晶体管或单元的数据比特数数量。从SLC NAND到MLC NAND,再到TLC NAND。

  问题是随着晶体收缩,比特数增加,表现数据存储的电子从一个单元泄漏到另一个里还有了数据错误。这意味着我们需要更多的纠错编码(ECC)来维持存储器的可靠性。这一点也已经变得越来越困难了。

  结果:不再继续制造尺寸更小更密集的存储器,厂商开始制造垂直NAND类似微型摩天大楼——采用电荷捕获技术的微小NAND向上堆叠层。

  东芝和闪迪的BiCS 3D垂直NAND便是如此。

  “3D NAND有力地回应了未来相当长一段时间的可预见性缩放比例,”闪迪的存储器技术执行副总裁Siva Sivaram表示,而对于缩放平面NAND,则称每年大约增加两倍容量。

  一个1Tbit芯片,外推到一个SD卡的容量,这将意味着一个产品拥有能存储800GB到1TB容量到半个邮票大小对象中的能力。

  东芝和SanDisk现在都很笃定3D NAND的未来,它们正在日本三重县翻新重建一个更大的晶圆厂专注生产3D NAND闪存芯片。该工厂将于明年竣工,第二季度开始大规模生产,Sivaram如是说。

  “我们的重点,现在是3D NAND,”Sivaram表示。“我们没有做其他的2D产品。”

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关键词: 东芝 NAND

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