DUV光刻机出口许可被撤 ASML:中国订单已全数交付
近日光刻机巨头ASML发布公告称,去年2型DUV光刻机已获准的出口许可证突然遭到撤销,不过,中国大陆客户预付购买DUV光刻机所积压订单基本都已完成交付。
本文引用地址:http://www.amcfsurvey.com/article/202401/454450.htm据ASML指出,2023年NXT:2050i、NXT:2100i光刻系统的出货许可证突然被撤销,不过这没有太多可以担心的地方,因为2023年ASML基本已交付了中国大陆客户预付的DUV积压订单,至于2023年之后是否能继续出口DUV光刻,在此之前本就无法确定。
《快科技》报导说,事实上2023年ASML一直都在向中国客户供应光刻机,其中就包含了NXT:2000i和更先进的DUV型号的产品。至于更先进的7nm以下更先进的EUV光刻机,ASML依然不能对中国客户出售。
据ASML官网提供的信息,该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有3款,分别是:TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
报导说,ASML官网上关于TNXT:1980Di介绍中指出,它在分辨率方面不小于38nm(可以支持到7nm左右),而这是指一次曝光分辨率,事实上光刻机是可以进行多次曝光。
至于DUV是否能进行7nm以下更先进的制程?据台积电前研发副总林本坚(Burn Lin)表示,依靠ASML的DUV光刻机,是可以继续将制程工艺从7nm再推向5nm,但要付出非常高昂的代价,至少需要进行4重曝光,耗时而且价格昂贵,还会影响整体良率。DUV最多可以做6重曝光,实现更先进的工艺,但问题与困难也会更多。
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