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楷登电子成功流片基于台积电N3E工艺的16G UCIe先进封装IP

作者:时间:2023-04-28来源:全球半导体观察收藏

近日,(Cadence)宣布基于3nm()工艺技术的Cadence® 16G ™ 2.5D成功流片。

本文引用地址:http://www.amcfsurvey.com/article/202304/446111.htm

采用3D Fabric™ CoWoS-S硅中介层技术实现,可提供超高的带宽密度、高效的低功耗性能和卓越的低延迟,非常适合需要极高算力的应用。

据悉,目前正与许多客户合作,来自测试芯片流片的已开始发货并可供使用。这个预先验证的解决方案可以实现快速集成,为客户节省时间和精力。




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