Entegris携最新产品亮相Semicon Taiwan，提供整合解决方案应对未来制造挑战

　　随着先进制程的不断推进，从14nm、10nm到将来的7nm、3nm，在生产过程中产生的微粒也越来越小，怎样去找到这些极微小的微粒将是未来半导体制造商面临的一个非常大的挑战。近日，领先特殊材料供应商Entegris参加了在Semicon Taiwan，同时发布了几款全新产品，其全球销售副总裁谢俊安也与台湾媒体进行了交流。

　　谢俊安首先介绍了Entegris的三个主要事业部，分别为电子材料部分，主要提供尖端气体、沉积的解决方案以及一些化学清洗类产品;第二个是微污染控制，主要的产品为用于水、气体以及化学方面的滤芯滤材;另外一个部分是主管运输方面的部门，可提供一些晶圆、化学品以及在客户工厂端的谁、气体和化学方面的运输解决方案。各个事业部可以单独提供服务给客户，也可以根据客户需要，提供综合的在解决方案。謝俊安表示：“随着制程技术的不断复杂，污染控制面临的挑战也越来越严峻。” 他列举了一个有趣的例子，找出现在的制程中的微粒就如在整个台湾找出两个1元硬币。而在半导体进行制造的过程中，每个环节都有可能产生污染，而Entegris的解决方案可以覆盖各个环节。如客户在制造气体过程中，Entegris可以提供解决方案，而在这些气体运输的过程中，这些强酸强碱可能会侵蚀塑胶品，可能会产生微污染， Entegris可以提供综合的解决方案给到客户，覆盖半导体生态圈的各个部分，确保每个环节的安全性。

　　近期，Entegris刚刚还扩建了其台湾的技术中心，加入了全新的微污染物分析与技术开发能力。谢俊安表示：“Entegris原本在台湾就有一个化学CAP中心和一个滤芯滤材中心，此次新的技术中心就是结合了原有的两个中心，并进行扩建，可以达到很好的综合效果。“此次扩展共投资了850万美元，用于扩展三个方面：一是1000级的无尘室;二是扩大5倍的实验室空间;三是进行设施装修和设备升级。谢俊安表示：”新的技术中心将Entegris在液体过滤、特殊用化学品和CMP领域的核心技术整合，提供更完整的分析服务与技术开发解决方案，满足随着制程推进已经器件不断小型化所带来的制造挑战。“

　　在Semicon Taiwan期间，Entegris同时发布了3款最新产品，它们分别为Integra® Plus WS(堰式阀)高流量流体管理阀门、Oktolex™ 薄膜技术以及GateKeeper® GPU(气体纯化装置)腐蚀性气体纯化器。其中Integra® Plus WS针对半导体制程应用中的腐蚀性化学品所设计，采用创新、单件且黏着剂的隔膜设计，其流体效能比竞争对手适用于超纯度大量化学品和CMP研磨液应用的阀高出70%。而Oktolex™ 薄膜技术可应用于先进的使用点光微影技术，它可针对各种化学品的需求，强化各种薄膜原本的拦截机制，过滤重要的光化学污染物。最后的GateKeeper® GPU腐蚀性气体纯化器采用了Entegris的高阶媒介，可同时去除18种不同其体内的湿气并捕捉挥发性金属微粒，有助于提升晶圆产能。