三星电子拟推新1GB移动DRAM
三星电子宣布,计划推出装有新宽I/O接口的1GB移动DRAM,以应用于智能手机和平板电脑等移动设备,将采用50纳米级工艺技术,传输速度可达12.8GB/秒。
本文引用地址:http://www.amcfsurvey.com/article/117058.htm韩国三星电子(Samsung Electronics Co., Ltd.)2月21日宣布,这家先进内存技术领域的全球龙头企业正在开发装有宽I/O接口的1GB移动DRAM(dynamic random access memory),将使用50纳米级工艺技术。新的宽I/O移动DRAM将被用于移动应用设备,诸如智能手机和平板电脑。
三星电子高级副总裁、存储产品规划与应用工程师Byungse So表示,“继2010年开发出4GB的LPDDR2 DRAM(低功耗DDR2 DRAM)后,装有I/O接口的新款移动DRAM解决方案将为高性能移动产品的进步做出重要贡献。”他表示,“我们将继续积极拓展高性能移动存储产品阵容,以进一步推进移动产业的成长。”
全新的1GB宽I/O移动DRAM数据传输速度可达12.8GB/秒,相当于移动DDR DRAM带宽(1.6GB/秒)的八倍,LPDDR2 DRAM贷款(约达3.2GB/秒)的四倍,同时将减少大约87%的功耗。
为了提高数据传输,三星的宽I/O DRAM使用了512根引脚进行数据输入和输出,相比之下,早期的移动DRAM采用了最多32根引脚。如果计入发送指令和调节电源的引脚,则单一三星宽I/O DRAM计划将配有大约1,200根引脚。
推出这一宽I/O DRAM之后,三星电子计划在2013年内推出20纳米级4GB宽I/O移动DRAM。该公司最近在移动DRAM领域取得的成就包括在2009年推出首个 50纳米级LPDDR2 1GB DRAM,以及在2010年推出首个40纳米级 2GB LPDDR2 DRAM。
三星将在2011的ISSCC (International Solid-State Circuits Conference)会议上呈现一份有关广泛I/O DRAM技术的文件,此次大会将于从2月20日至24日在旧金山举行。
根据iSuppli,到2014年,移动DRAM占年度DRAM总出货量的比例将从2010年的11.1%增加至约16.5%。
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